Китайская революция в литографии: прорыв или имитация?
Недавние события в сфере литографических технологий открывают новые горизонты для Китая. Инженеры из Поднебесной, несмотря на жесткие санкции США, сумели создать прототип литографической установки — ключевого компонента для производства современных чипов с техпроцессом 5 и 3 нм. Эта технология ранее была в единственном экземпляре у голландской компании ASML, но теперь китайцы, используя опыт вышедших на пенсию инженеров этой компании, вышли на новый уровень.
По информации, спецслужбы Китая провели масштабную операцию, собрав более ста специалистов, которые работали на ASML, под предлогом поддельных документов. Эти ветераны, получив все необходимые ресурсы, создали прототип, однако он пока не способен производить чипы. Этот проект стал своего рода «Китайским Манхэттенским проектом», который может кардинально изменить глобальный рынок полупроводников.
#Китай #литография #технологии #полупроводники #ASML #санкции
Китайская революция в литографии: прорыв или имитация?
